一、LightMap Parameters 级别越高，阴影越真实
二 、Ambient Occlussion Indirect Contribution 值越大，边缘阴影越黑
三、Ambient Occlussion Direct Contribution
四、Ambient Occlussion MaxDistance
五、Lightmap Resolution 值越大，效果越好
六、Albedo Boost
原文链接：https://blog.csdn.net/yuyingwin/article/details/87880232
七、加快烘焙速度
1.第一个影响因素是Indirect Resolution，这个参数影响的光照贴图中间接光的质量，但不影响阴影质量。在第一步的计算中，需要对所有模型的表面进行分块/聚类（Cluster）操作，把模型体素化，表面分成一个个格子，再基于这个格子进行间接光照的计算。Indirect Resolution越大，Cluster数量越多，格子越密集，计算就越慢。而这个参数对于效果的影响不大，一般情况下无需调到太高值。
对于Indirect Resolution的设置建议：
室内：2-3，室外：0.5-1，大型地形：0.1-0.5；
2.第二个影响因素是Lightmap Resolution，它影响的是阴影质量及最终烘焙的贴图大小。对于该参数大小设置的建议是Indirect Resolution的十倍。而且这个值越小，烘焙的光照图也越小，并达到节省内存的效果。
3.第三个影响因素是反射贴图的分辨率。一般设置为64或128即可。
4.第四个影响因素是计算光照时展开的UV大小。在烘焙时，Unity要将场景分成许多小块进行计算，最后把这些小块映射到一张平铺的UV上，而切分时小块的数量过多也会造成光照贴图增大。可以通过MeshRenderer组件上的Optimize Realtime UV选项进行优化。
