一、LightMap Parameters 级别越高,阴影越真实
二 、Ambient Occlussion Indirect Contribution 值越大,边缘阴影越黑
三、Ambient Occlussion Direct Contribution
四、Ambient Occlussion MaxDistance
五、Lightmap Resolution 值越大,效果越好
六、Albedo Boost
原文链接:https://blog.csdn.net/yuyingwin/article/details/87880232
七、加快烘焙速度
1.第一个影响因素是Indirect Resolution,这个参数影响的光照贴图中间接光的质量,但不影响阴影质量。在第一步的计算中,需要对所有模型的表面进行分块/聚类(Cluster)操作,把模型体素化,表面分成一个个格子,再基于这个格子进行间接光照的计算。Indirect Resolution越大,Cluster数量越多,格子越密集,计算就越慢。而这个参数对于效果的影响不大,一般情况下无需调到太高值。
对于Indirect Resolution的设置建议:
室内:2-3,室外:0.5-1,大型地形:0.1-0.5;
2.第二个影响因素是Lightmap Resolution,它影响的是阴影质量及最终烘焙的贴图大小。对于该参数大小设置的建议是Indirect Resolution的十倍。而且这个值越小,烘焙的光照图也越小,并达到节省内存的效果。
3.第三个影响因素是反射贴图的分辨率。一般设置为64或128即可。
4.第四个影响因素是计算光照时展开的UV大小。在烘焙时,Unity要将场景分成许多小块进行计算,最后把这些小块映射到一张平铺的UV上,而切分时小块的数量过多也会造成光照贴图增大。可以通过MeshRenderer组件上的Optimize Realtime UV选项进行优化。