在执行线性空间滤波时，经常会遇到两个概念相关和卷积
二者基本相似，在进行图像匹配是一个非常重要的方法。
相关是滤波器模板移过图像并计算计算每个位置乘积之和的处理
卷积的机理相似，但滤波器首先要旋转180度
相关的计算步骤：
（1）移动相关核的中心元素，使它位于输入图像待处理像素的正上方
（2）将输入图像的像素值作为权重，乘以相关核
（3）将上面各步得到的结果相加做为输出
卷积的计算步骤：
（1）卷积核绕自己的核心元素顺时针旋转180度
（2）移动卷积核的中心元素，使它位于输入图像待处理像素的正上方
（3）在旋转后的卷积核中，将输入图像的像素值作为权重相乘
（4）第三步各结果的和做为该输入像素对应的输出像素
超出边界时要补充像素，一般是添加0或者添加原始边界像素的值
可以看出他们的主要区别在于计算卷积的时候，卷积核要先做旋转。
而计算相关过程中不需要旋转相关核。
离散单位冲击：我们将包含单个1而其余全是0的函数成为离散单位冲击。
重要性质：一个函数与离散单位冲击相关，在冲击位置产生这个函数的一
个翻转版本。
f 函数
w 滤波器模板
eg：
f（x，y）
0 0 0 0 0
0 0 0 0 0
0 0 1 0 0
0 0 0 0 0
0 0 0 0 0
w（x，y）
1 2 3
4 5 6
7 8 9
相关 f*w =
0 0 0 0 0
0 9 8 7 0
0 6 5 4 0
0 3 2 1 0
0 0 0 0 0
卷积f*w=
0 0 0 0 0
0 1 2 3 0
0 4 5 6 0
0 7 8 9 0
0 0 0 0 0
相关的用途：图象的匹配